安装在激光衍射测量系统HELOS/ BR的测试区域的湿法分散系统QUIXEL/ L可分散粒径大和高密度的悬浮液和乳液
可分散粒径大和高密度的悬浮液和乳液颗粒,实现快速的粒度分析
QUIXEL/L 是适用于对各种悬浮液和乳液中的0.1微米至3.5毫米尺寸范围的颗粒分析的先进湿法分散系统.它的创新的无软管设计提供了非常快速的测量周期. 即使是高密度的颗粒如3毫米滚珠轴承里的不锈钢滚珠也可被安全运送至流样池,不需要使用任何高粘度的分散剂。
QUIXEL/ L是一个闭环湿法分散系统。它包括一个细长的不锈钢分散池容积为1升。分散池的顶部设计了一个溢出环槽直接连接到排水管。这是一项安全功能,可用于在特定应用中手工注入液体来稀释该悬浮液或乳液,以降低浓度达到测量系统的要求。可拆卸的玻璃盖有效的防止了挥发溶剂的蒸发。
在分散池内在300毫升和1000毫升处配备有两个液位传感器。在此刻度之间可进行无气泡操作.
湿式分散处理是通过一个内置的从0到60W的1%步可调节超声波单元支持。压电震荡器是由一个完美的正弦波激发,因此使热损耗降至最低,从而使被测液体及样品最低限度的被加热。超声处理为配合液位和分散剂被进行了最优的调节。
在分散池的底部装有一个可控制速度的离心泵用于均匀运送悬浮液通过流样池。随着分散池底部的降低,池内的液体通过重力作用被很快排出。即使是高粘度液体也可以在几秒钟内被排出。再配合快速注水和清洁过程使得短的测量周期时间降低到每次测量不到1分钟.
流样池采用的是流动优化的设计,共两种间隙宽度2mm和6mm可供选择。流样池的类型由RFID自动识别。流样池被机动固定, 便于放置和取出。
操作是全自动的。所有参数,如泵速等参数都由软件或手动通过操作面板进行控制。控制面板左边的显示器上的玻璃盖具有耐溶剂性能。
分散池装有一个温度传感器监测样品的温度。为保持样品温度比室温高,一个内置可调节的加热电阻器(至60W)可供选择。另外还有外部带导流接口的热交换器和一个RS232C通讯接口连接的对样品进行加热和冷却的外部温度控制装置也可供选择。
一个外部接口可实现外部的注水,清洗和排水,例如通过连接LIQIBACK.
另外有一个特殊设计的可用于自动添加添加剂的顶盖可供选择.
QUIXEL/ L有两规格的流样池可供选择, 即2毫米或6毫米. 下列配件可选作为附加配件。
加热模块,60 W, 只能在出厂工厂进行安装 |
供应单元 : - 注水容器加泵和液位传感器。 |
集成热交换器和连接外部温度控制单元的RS232C接口 只能在出厂工厂进行安装 |
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冲洗顶盖 , 包含“冲洗流样瓶”和“添加添加剂”功能与供应单元组合使用。 |
添加剂顶盖 包含“添加添加剂”功能与供应单元组合使用。 |
EPDM 三元乙丙橡胶密封件 耐酮,只能在出厂工厂进行安装 |
MULTISAMPLER/湿法系统的连接套件 |
FFKM 全氟橡胶密封件 具备几乎普遍的耐化学性,只能在出厂工厂进行安装 |
LIQIBACK 准备单元 |
不锈钢流样池和螺旋式可装窗户。窗口间距:6毫米, 密封材料:FKM, 适用于压微米颗粒 |
不锈钢流样池和螺旋式可装窗户。窗口间距:6毫米, |
不锈钢流样池可以很容易的被取出, 拿去清洗.
按下按钮,“Cuvette(流样池)”,直到;"unlock” (解锁)出现 | 手动解锁流样池 | 取出流样池 |
QUIXEL/L的操作面板置于设备的前面方便操作, 侧面安装了进水和出水接口。 整台设备被放置于一个支撑架上。
侧视图显示打开的玻璃顶盖,不锈钢分散池以及为可方便操作流样池的前开式前盖.
安装在HELOS/ R测量系统测量区的QUIXEL/ L的后视图。图中的电缆是QUIXEL/ L的电源和通过RS485的通信线路。三个附加的接口用于例如通过LIQIBACK(可选)进行自动注入和排放,通过一个特殊的顶盖(可选)可添加添加剂和进行清洗, 以及通过RS232C接口(可选)实现外部的温度控制。
QUIXEL/ L有两个规格的流样池可供选择,即2毫米和6毫米。
QUIXEL/L 2毫米间隙宽度的不锈钢流样池和可装卸的螺旋式窗。
QUIXEL/L的所有功能,例如注入, 排放, 排气, 超声波, 循环泵, 泵速, 分散池温度, 添加剂的添加, 放入和取出流样池,都能通过安置于设备前部的控制面板进行人工手动设置。
QUIXEL/ L的控制面板和显示屏幕
QUIXEL/ L安装了为实现自动注水和排水的液位传感器。溢出环槽的设计实现了人工注水稀释功能.
图为QUIXEL/ L的俯视图,
展示了分散池,溢出环槽和各个循环入口