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기술사양

측정기: HELOS BR:        0.1 ~ 875 micron
KR:       0.1 ~8750 micron
VARIO: 0.1 ~ 8750 micron
이론: 광회절 l = 632.8 nm1
분산: 모듈식 건식분산, 분무,
액상유화체, 유화액
측정: 다원소 검출기
측정빈도
31 원소 반원형 검출기
초당 2000회, 연속 자동정렬장치
평가: Fraunhofer Enhanced Evaluation FREE Mie Extended Evaluation
MIEE as an option
범위: optical modules R1 ~ R8
성능: accuracy
반복성

재현성 
x10, x50, x90
s < 2%       mean rel. SD to absolute value
s < 0.04% typical (repeated sample)
s < 0.04% 일반 (연속시료)
s < 0.3% 일반 (축분시료)
s < 1% mean 비교표준편차
/Dx/ < 2.5% 최고 비교표준편차
< 5% Submicron영역에서의 비교편차
제어: WINDOX 소프트웨어 제어 WINDOWS 7 / Vista Prof. / XP Prof.
응용: 레이져출력
보안등급 및 종류
광원크기r
(1/e²)
5 mW
3R/IP40
R1 및 R2 : 2.2 mm
R3 ~ R5: 13 mm
R6 및 R7: 26 mm
R8: 35mm
품질보증: 보증서
표준시료




검증
standard test procedure
SiC - F1200 (x50 = 4.5 micron)
SiC - P600 ( x50 = 27micron)
SiO2 - F34 (x50 = 260micron)
SiC -P 50 (x50 = 430micron)
FDA 승인

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HELOS
광회절 입도분석장치
0.1 ~ 8750 micron

symbol: laser diffraction