OPUS는 고농도의 액상부유체 및 유화액 (70%, 부피기준)을 희석하지 않고 측정하는 공정투입 현장용 입도분석장치로서 아래의 응용에 매우 적합하다.
OPUS 응용의 예 : |
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분쇄공정의 실시간 모니터링 |
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왼쪽의 추이그래프는 시간의 진행에 따른 입도분포의 특정 수치 (x10, x50, x90)를 나타내고 있으며, 이는 실시간으로 분쇄공정을 감시하고 있다는것을 나타낸다. OPUS를 이용하여, 사용자는 요구되는 품질의 제조과정을 매우 간단히 확인할 수 있다. 이 경우, OPUS는 10에서 200mm의 배관의 순환구조에 설치되었다. |
소금의 결정화 모니터링 (조건: 115°C, 2 bars), |
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왼쪽의 추이그래프는 연속 결정화공정에서의 측정입도분포의 특정 수치 x10값의 감소와 x90값의 빠른 증가의 정보를 이용하여, 결정화반응 중의 문제를 나타내고 있다. 과정의 큰 문제를 측정한 OPUS는 결정의 크기를 실시간으로 측정하고, 이 측정결과는 중앙제어실에서 결정화장치의 불안정성을 즉시 알게된다. 이 경우, OPUS는 1400mm의 길이를 가지고, 결정화장치의 순환장치내에 설치되었다. |
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Real time monitoring of an 유화공정의 실시간 모니터링 |
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초음파차폐이론은 액상부유체 뿐만 아니라, 유화반응도 측정할 수 있다. 희석과정은 유화액에 현저한 영향을 주기 때문에 비희석 방식의 OPUS측정은 유화공정 모니터링에 이상적이다. 왼쪽의 분포도는 유화액에 적용된 각기 다른크기의 에너지의 사용에 따른 입도뵨화를 나타낸다. |
