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기술사양

측정기: HELOS BF: 0.1 ~ 875 micron
KF: 0.1 ~8750 micron
VARIO: 0.1 ~ 8750 micron
이론: 광회절 l = 632,8 nm1
분산: 모듈식 건식분산, 분무,
액상유화체, 유화액
측정: 다원소 검출기
측정빈도
31 원소 반원형 검출기
초당 2000회, 연속 자동정렬장치
평가: Fraunhofer MIE (선택사항)
범위: optical modules R1 ~ R8
성능: 반복성

재현성 
x10, x50, x90
s < 0.04% 일반 (연속시료)
s < 0.3% 일반 (축분시료)
s < 1% mean 비교표준편차
/Dx/ < 2.5% 최고 비교표준편차
< 5% Submicron영역에서의 비교편차
제어: WINDOX 소프트웨어 제어 WINDOWS XP Pro / 2000
응용: 레이져출력

보안등급 및 종류
광원크기r
(1/e²)

5 mW
3A/IP40
R1 및 R2 : 2.2 mm
R3 ~ R5: 13 mm
R6 및 R7: 26 mm
R8: 35mm
품질보증: 보증서
표준시료




검증
standard test procedure
SiC - F1200 (x50 = 4.5 micron)
SiC - P600 ( x50 = 27micron)
SiO2 - F34 (x50 = 220micron)
SiC -P 50 (x50 = 420micron)
FDA 승인

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HELOS
광회절 입도분석장치
0.1 ~ 8750 micron

symbol: laser diffraction

레이져 안전기준

HELOS/BF with dry / wet disperser combination OASIS

모든 HELOS/BF 및 HELOS/KF제품은
일급레이져제품임.
직접 쳐다보지 마십시요.

HELOS/KF-VARIO with flexible width of the measuring zone, e.g. for spray apllication

모든 HELOS /KF-Vario제품은
일급레이져제품임.
직접 쳐다보지 마십시요.